实验室 小型真空等离子清洗机NE-HW10
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产品简介

小型真空等离子清洗机是一种专用于表面清洁和改性的高精度设备,其核心原理是利用等离子体技术高效去除物体表面的有机或无机污染物,并实现对材料表面特性的优化。该设备通过引入高能离子源(通常为氢气、氧气、氦气等气体),在加热或电场作用下激发气体分子,使其电离形成等离子体。这些等离子体由高能电子、离子、自由基和激发态分子组成,具有极高的化学活性。在电场的作用下,等离子体中的活性粒子以高速撞击待清洗物体的表面,通过与污染物分子发生物理轰击或化学反应,将其分解为挥发性小分子或直接剥离,从而实现表面的深度清洁。除了清洁功能,等离子清洗机还能在一定程度上改变材料表面的物理化学特性。例如,通过选择不同的工作气体和处理参数,可以在材料表面引入特定的官能团,从而增强其润湿性、附着力或生物相容性。这种表面改性功能在微电子制造、光学器件、生物医学材料等领域具有广泛的应用价值。

产品参数

等离子体发生器采用NAENTECH新一代放电专利射频离子源,频率偏移量<0.2KHz,功率0-300W连续可调,自动阻抗匹配;
真空反应腔室材质316不锈钢,军工级密封;腔体容积10.8L;腔体尺寸200(W)*270(D)*200(H)mm;单层有效处理面积176(W)x210(D)mm;电极数量2个镀金铝合金专用电极+2个铝合金托盘;处理层数3层;单层间距,H:40mm;
气路控制配置MFC质量流量控制器,量程0-500 SCCM;气路数量,2路气体,支持氧气,氩气,氮气,氢气等;
真空计皮拉尼真空计,测量范围:5×10-2 ~1.0×105 Pa;测量精度:0.1Pa;
抽气系统真空泵抽速:8m'/H,配油雾过滤器,极限真空度1PA,降噪减震设计,全金属连接耦合系统;真空管路配置不锈钢管路+气动阀门;
控制系统全触摸屏7寸,气体流量和真空度可实时精准显示与控制,控制方式PLC;实时监控功率、工作时间;自主专利设计等离子控制系统,自动、手动模式,IO监控;真空防呆、功率防呆、电机过热报警;支持通入工艺气体,先进行压强平衡,可设置平衡时间。
场务条件电源供应220V 5A;气管接口直径6mm;气体纯度99.99%;气体压力0.4-0.6Mpa;排气口KF25。
整机参数整机功率1300W;外形尺寸,528mm(L)×510.5mm(W)×513 mm(H)。


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