低温射频 真空等离子体清洗设备NE-PE200F
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产品简介

NE-PE200F是一款中大型真空等离子体清洗设备,适用于大规模工业生产使用。等离子体清洗通过其中的活性离子与物体表面发生化学反应来达到清洗的目的。例如通过氧气清洁物体表面的有机物,产生氧化反应,氧等离子体和污染物产生二氧化碳、氧化碳和水。通过氮气电离形成的等离子体可以与部分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,颗粒相对较重;在清洗和活化的同时,可以达到一定的轰击和蚀刻效果,防止部分金属表面氧化。如今,等离子清洗机广泛用于当代半导体、电路等行业,在元件封装前、芯片键合前可借助等离子清洗处理,其优点是清除效率高,不会对样品表面造成损伤,从而提升产品的质量。

产品参数

型号NE-PE200F
等离子频率13.56MHz 自动阻抗匹配
极限真空度1Pa
功率0-1000W可调
腔体材质316不锈钢/铝合金(可选)
腔体尺寸600(W)*600(D)*600(H)mm
腔体容积210L
单层有效处理面积W560mm x D520mm
气路数量2路气体,支持氧气,氩气,氮气,氢气等,腐蚀性气体需提前说明
极板间距54mm(可调整)
处理层数8层(可定制)
控制方式PLC+触摸屏
真空泵油泵/干泵(可选)
电源AC380V,50/60Hz
外形尺寸1450mm(L)×1260mm(W) ×1720 mm(H)


产品应用

01

提升表面亲水性

提升表面亲水性

02

提高界面粘接性

提高界面粘接性

03

提高材料表面能

提高材料表面能

04

有机物油污清洗

有机物油污清洗

05

氧化物还原

氧化物还原

06

提高印刷性能

提高印刷性能

应用案例

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