NE-MW100是一款大型工业用真空微波等离子清洗设备，配置旋转型等离子清洗工艺平台，工作启停稳定，全方位处理，清洗更均匀。微波等离子是由工作频率为2.45 GHz的微波激发工艺气体放电产生，主要产生化学反应性等离子体，整个放电过程不需要正负电极,产生自偏压极小，离子冲击小，避免了电荷积累，适合敏感器件清洗（半导体芯片，微波器件等）。设备主要用于材料表面微观清洁、活化、改性、去氧化、去胶等应用，具有高效和无损伤的特点。