射频介质阻挡放电（DBD）宽幅等离子清洗机的主要原理与低频时基本相似，主要为电子在外电场中获得能量，通过碰撞把能量转移给其他分子，使其激发或离解，产生电子雪崩。电子雪崩迅速发展并向阳极移动，当发展到一定程度后，电子雪崩中的空间电荷便会使原电场产生畸变，加强了电子崩头及崩尾处的电场；并且由于电子崩中电荷密度很大，从而引起二次电子雪崩，与第一次电子雪崩汇合后使放电区域迅速扩大，最后形成了贯穿整个放电空间的、高导电率的丝状微放电通道。

射频介质阻挡放电等离子体作用于材料表面主要发生的物理和化学变化有:清洁作用，通过物理刻蚀作用和化学反应使涂覆于材料表面的物质挥发;使材料表面变得粗糙，增加其比表面积;在材料表面产生自由基和活性中心，使其表面具有反应活性;材料表面的自由基之间发生反应，从而引发表面交联;材料表面的自由基与放电空间的活性粒子发生反应，从而引入极性基团。虽然不同的气体电离后所产生的活性粒子的种类不同，对材料表面的改性效果也将不尽相同，但上述作用机理是相同的，且是同时发生的。

射频介质阻挡放电宽幅等离子清洗机旳特点

射频介质阻挡放电是一种非常适合用于材料表面改性的等离子体放电方式，其特点主要有以下三点。

1、放电频率的增加，使得电子在单位时间内在电极间的震荡次数增加，从而更有利于高能电子的产生，这使得击穿电压小于同气压下的低频放电；而且高频交变的电场使电子在电场中的震荡和碰撞更加强烈，这更有利于发生多电子崩。

2、在射频介质阻挡放电中，两电极之间的绝缘介质避免了放电空间产生局部弧光和火花放电，保证了等离子体处理的安全；为了进一步处理放电稳定性和放电强度之间的矛盾，可以釆用脉冲调制放电。

3、可以通过控制外部参数，如电极尺寸、放电间隙、放电功率等，调节等离子体中电子的密度和平均动能，从而优化微放电通道。

射频介质阻挡放电宽幅等离子清洗机相比电晕放电等离子设备、辉光放电等离子设备以及低频介质阻挡放电等离子设备的应用前景更广。这是因为电晕放电虽然能在常压条件下产生等离子体，但是等离子体的分布极不均匀，主要集中在电场较强的区域，而且放电弱、效率低，不适合工业化大规模应用；辉光放电虽然可以产生均匀的等离子体，但是需要真空系统，成本高、能耗大、效率低，不适宜连续工业化生产。低频介质阻挡放电虽然不需要真空系统，但当放电电压进一步增大时难以达到均匀放电。射频介质阻挡放电不仅具有电晕放电可在常压下运行的优点，还能像辉光放电一样使放电均匀稳定。