名称

参数

型号

NE-RE08H

极限真空度

≤1×10^-4 Pa

系统漏率

≤5×10-7  Pa·L/s

样品尺寸

最大支持 8 英寸晶圆

等离子体刻蚀不均匀性

≤5%

等离子体刻蚀速率：

≥0.2μm/min（以硅晶圆为基准）

刻蚀距离范围调节：

60-120mm，自动调节，调节精度：1mm

支持刻蚀材料

支持刻蚀材料氟基和氧基刻蚀，可刻蚀材料包括但不限于单晶硅、多晶硅、非晶硅、氮化硅、 氧化硅、聚合物等；

反应气体路数

四路反应气体

电容耦合电极材质

不锈钢；

电极最大功率

≥600W

等离子体源

具有自动阻抗匹配功能，保证等离子体均匀稳定；

匹配器匹配稳定时间

＜3s

最小启辉功率  

10W

压力控制系统范围

0.5Pa-5Pa； 精度±1%

压力调压速度

≤30s

电极冷却方式

水冷

自动控制系统

配备工控机

真空泵

低真空泵 +高真空分子泵

质保

1年

配件

10 升

设备各口径 O 型圈

1套

观察窗

3个

电极板

5个

覆盖片

维修工具（六角扳手、活口扳手、一字/梅花螺

丝刀等必要拆卸维修工具）

1 套