大气压等离子体清洗技术,凭借其无需真空系统及高活性粒子密度的显著优势,已成为实现低成本、高效在线清洗的理想方案。等离子体射流与介质阻挡放电(DBD)作为表面清洗领域的两大主流技术,各自展现出独特的优势与局限性。尽管射流等离子体清洗设备在局部清洗中展现出优越的性能,但其处理面积的局限性显著制约了在大面积表面清洗中的应用潜力。相比之下,DBD宽幅等离子清洗设备具有放电面积大、结构简单的优势,在大面积表面清洗应用中展现出了巨大潜力。通过等离子清洗不仅可以去除材料表面的污染物,同时还能引入羟基、羧基等亲水基团,并提高材料的亲水性及粘结性,因此被广泛的用于改变材料表面特性。

产品特点：1、能够在大气压下产生大面积均匀的等离子体，可以有效提升清洗效率；2、可实现在线清洗，易于集成；3、放电区域与材料处理区域分离，不会造成元件损伤；

产品应用：1、适合于对薄片状的材料进行改性，例如玻璃、金属箔材、高分子薄膜等；2、液晶面板产业 STN、TFT、OLED、LTPS；3、光伏行业ITO/FTO玻璃清洗；4、AF镀膜（防指纹），AS镀膜（防刮），AG镀膜（防炫），AR镀膜（增透）前处理；5、显示屏ACF贴合前处理；6、光电元件、电子元件封装贴合前清洗；