有机物氧化物清洗

等离子清洗机采用气体作为清洗介质，正常情况下去除的微粒被气流带走，无残留，避免了液体清洗介质清洗带来的二次污染。被清除的沾污可能有：有机物、环氧树脂、光刻胶、焊料、金属盐、氧化物等。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺，一般来说，根据选择的工艺气体不同其清洗的污染物类别也有很大的区别，有的气体是用来清洗有机物，有的气体是用来清洗氧化物，具体应用举例如下：

氧气等离子清洗有机物示意图

有机物+O₂→CO₂+H₂O

氧气通过与表面的有机物发生氧化反应来清洁材料表面。清洗过程中，活泼的氧自由基与碳氢化合物发生反应，产生的二氧化碳、一氧化碳和水等随气流挥发排出。

氢气等离子还原氧化物示意图

H₂+非挥发性金属氧化物→金属+H₂O

氢气通过与表面的氧化物发生还原反应来清洁材料表面。出于安全性考虑，建议使用 氩 / 氢混合气，其中氢气含量不超过 6% 。