镀膜前清洗活化

薄膜的附着机理

附着是指薄膜和基体表面相互作用将薄膜粘附在基体上的一种现象，是与薄膜在基体上存在的耐久性及耐磨性直接相关的重要概念。附着力的产生来源于膜与基片之间的相互作用，它的作用机理就是吸附，吸附可分为物理吸附和化学吸附两种。

附着力的影响因素

膜层与基片之间的附着力，总体上受以下因素影响。基片的表面粗糙度和结构是否存在缺陷；基片表面是否清洁；基片表面的状态能问题等。

如果基片不经过清洁处理，将在其表面上留有一个污染层，使基片表面的化学键达到饱和，故淀积上薄膜以后，膜的附着力很差。因此，在制造薄膜时，为了提高其附着性能，必须先对基片进行清洁和活化处理。

等离子清洗

一方面等离子清洗，可去除镀膜基片表面残留的一些细微污染物以及分子原子基团等，并使得镀膜基材表面引入亲水极性基团，从而使固体表面具有良好的液体流动性，增大膜层与基片的附着力。

另一方面在镀膜前通过等离子轰击工件，其轰击能量可传递给基底的晶格原子，使晶格结构遭到破坏，增加工件表面的微观粗糙度，使基底的表面原子彻底裸露，提高原子的极化率，缩小了薄膜原子与基底表面原子的间距，同时增加薄膜与表面的接触面积，有利于提高机械锁紧力，从而极大地改善薄膜与基底间的附着力。